Статья: Установка для межоперационного контроля полупроводниковых структур микрофотоэлектроники на работоспособность и анализа на отказ в технологическом процессе их производства.

Б. Н. Васичев, С. А. Дицман
Московский государственный институт электроники и математики (Технический университет),
Москва, Россия

Е. П. Бочаров, В. Т. Савуков
Государственное предприятие “НИИ электронной и ионной оптики”, Москва, Россия

Рассмотрены основные положения методов электронно-лучевого анализа на отказ и работоспособности полупроводниковых приборов. Дано описание установки ЭЛУ-КНТ, предназначенной для контроля материалов и изделий микрофотоэлектроники методом наведенного тока.